武汉大学科研CVD设备供气系统圆满竣工

     化学气相淀积（CVD）技术是半导体工艺中常用的主流工艺技术之一，它具有原材料容易提纯、运行成本低、控制简单、反应速度快等特点，是国际上应用最为广泛和市场占有率最大的半导体工艺技术，例如在Si、GaAS、GaN、ZnO等材料衬底上沉积各种薄层材料。CVD设备是半导体生产厂家及相关研究单位的必备设备。

LANTO朗拓科技为武汉大学建设的针对CVD化学气相淀积的供气系统特点：

1、气路控制系统不间断气体供应，采用半自动切换汇流排，以保证气体的连续供给；
2、气体压力稳定，系统采用两级减压(一级由供气控制系统调节，二级由使用点的控制阀调节)方式供气，可得到非常稳定的压力；
3、管道采用BA级316L不锈钢无缝钢管，管接头阀件均为316L不锈钢材质，可保持气体的纯度；
4、供气系统设置压力、泄露警示与紧急切断，当气压低于警报限时，报警装置可自动启动报警以便及时更换气瓶，当浓度探测器探测到危险性气体泄漏时会将信号传送至报警器同时启动紧急切断与排风扇联动；
5、所有气瓶均集中存放在防爆气瓶柜中，操作安全简便。

    广州朗拓仪器设备有限公司成立于2012年，是一家专注于气体应用科技的高新技术企业。公司业务涵盖电子特气系统、实验室气路系统、高纯气体及特殊工艺气体二次配管系统、氢能源供气系统、模块化高压储气供气系统等，提供从技术咨询、整体规划、系统设计、选定设备、预制组件、项目现场安装建设、整体系统检测等全套工程技术服务和配套产品。
       公司旗下拥有LANTO®、BY-LOK®等行业知名品牌，自主研发及生产气体半自动切换汇流排、气体减压器、管阀件、接头；气体混合配比仪；超高纯供气面板；特气柜、VMB阀门箱；科研测试设备；超高压、超低温气体系统；高真空系统；气体取样系统等产品，经国家认证实验室检测合格，广泛应用于高校实验室、科研检测单位、半导体、微电子、生物制药、医疗、光伏、LED、石油化工、电力、新材料、新能源等领域。

     武汉大学（Wuhan University）简称“武大”，是中华人民共和国教育部直属的综合性全国重点大学；位列“世界一流大学和一流学科”、“985工程”、“211工程”；入选学位授权自主审核单位、“珠峰计划”、“强基计划”、“2011计划”、“111计划”、卓越工程师教育培养计划、卓越法律人才教育培养计划、卓越医生教育培养计划、国家建设高水平大学公派研究生项目、国家级新工科研究与实践项目、一流网络安全学院建设示范项目高校、中国政府奖学金来华留学生接收院校、全国深化创新创业教育改革示范高校、国家大学生文化素质教育基地、大众创业万众创新示范基地、基础学科拔尖学生培养计划2.0基地，为欧亚-太平洋大学联盟、大学通识教育联盟、中国高校行星科学联盟、法学教育创新联盟、医学“双一流”建设联盟成员。